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特色：

• 平板In-Line ALD设备, 兼容P型与N型电池技术路线和各种电池片尺寸 

• 单面水平镀膜工艺，更适合182/210mm等大硅片生产 

• 良好的AlOx钝化效果，大尺寸N型电池转化效率高 

• 工艺窗口宽、绕镀少、碎片率低、综合良率高，适合规模化量产 

• 大尺寸硅片均匀性可与166mm硅片一致